Séminaire : Maîtriser l’arrangement de La Haye, de l’Asie aux États-Unis via l’Union Européenne, le 14 juin 2017

Dans le cadre d’une série d’événements locaux organisés par l’association MARQUES en collaboration avec l’OMPI, le Cabinet Plasseraud hébergera un séminaire au cours duquel j’interviendrai.

L’intitulé de ce séminaire dédié aux dessins & modèles est :

« Maîtriser l’arrangement de La Haye de l’Asie aux États-Unis via l’Union Européenne »

L’Accord de La Haye concernant l’enregistrement international des dessins ou modèles offre la possibilité d’obtenir une protection pour les dessins et modèles industriels dans plus de 80 pays via une demande unique déposée auprès de l’OMPI.

La demande internationale remplace le dépôt de plusieurs demandes locales auprès des Offices nationaux ou régionaux et, par conséquent, permet de gagner du temps et de l’argent. Toutefois, l’accord de La Haye prévoit uniquement un mécanisme d’enregistrement centralisé et normalisé au niveau international, et non pas une règlementation uniforme. Aussi, bien que les exigences formelles spécifiques soient ainsi écartées, les différentes exigences de fond posées par chaque juridiction peuvent néanmoins avoir une incidence sur le processus d’enregistrement dans le cadre du système de La Haye et doivent donc être prises en compte au moment du dépôt.

L’objectif du séminaire, organisé par MARQUES en collaboration avec l’OMPI, est de donner aux utilisateurs la possibilité de mieux connaitre le fonctionnement du système de La Haye et de pouvoir l’utiliser en pratique. Le séminaire se concentrera plus précisément sur la pratique liée aux désignations du Japon, de la République de Corée ou des États-Unis d’Amérique afin de fournir aux utilisateurs européens un retour d’expérience et des conseils.